Budget: 14,3 mio. kr.
Tilsagn fra RTI: 5,6 mio. kr.
Konsortiets målsætning er at udvikle måleteknikker til industrielle komponenter med overfladeegenskaber, som er modificerede på mikrometer- og nanometerskala.
Nanoteknologiske problemstillinger forudsætter en positionering af elementer med dimensioner i nanometerområdet i forhold til hinanden med nanometers nøjagtighed, svarende til få hundredetusinddele af tykkelsen på et hår. Lykkes dette ikke forringes funktionen, hvilket medfører reduceret følsomhed eller i værste fald fejlbehæftede produkter.
Avanceret måleteknik er derfor en nødvendig forudsætning for udviklingen af alle de produkter vi omgiver os med i hverdagen. I hospitalsudstyr, digitale telefoner og IT hardware sidder der således i dag komponenter, hvis funktionalitet kræver mikrometer kontrol af tolerancerne. Udviklingen går hurtigt mod endnu mindre- og multifunktionelle produkter med øgede krav til funktionaliteten af de enkle komponenter og de tilhørende tolerancer. For mange produkter fås en øget funktionalitet og længere levetid ved modifikation af materialers overflader, eller sammensætningen lige under overfladen indenfor få atomare lag fra denne. Den måletekniske udfordring for opnåelse af tolerancer helt ned på nanoskalaen vil blive kortlagt, og de foretrukne teknikker vil blive gjort tilgængelige, af dette konsortium.
Konsortiets deltagere
Virksomheder:
NIL Technology ApS, Ignis Photonyx A/S, SCF Technologies A/S, CemeCon Scandinavia A/S
Forskningsinstitutioner:
Danmarks Tekniske Universitet og Syddansk Universitet
Teknologiske serviceparter:
Dansk Fundamental Metrologi og Force Technology
Kontaktperson:
Centerleder Poul-Erik Hansen, Dansk Fundamental Metrologi, Telefon: 4593 1144, E-mail: peh@dfm.dtu.dk